|
| MOQ: | 1 ยูนิต |
| ราคา: | Negotation |
| บรรจุภัณฑ์มาตรฐาน: | บรรจุด้วยกล่องไม้ |
| วิธีการชำระเงิน: | ที/ที, เวสเทิร์นยูเนี่ยน |
| กำลังการผลิต: | 1,000 หน่วยต่อเดือน |
การเคลือบอนุภาคนาโนแบบอะตอมไมเซชันด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบาง
คำอธิบาย:
การเคลือบอนุภาคนาโนแบบอะตอมไมเซชันด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบางเป็นกระบวนการขั้นสูงที่ใช้เทคโนโลยีคลื่นเสียงความถี่สูงในการเคลือบชั้นสำคัญของเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบางอย่างแม่นยำ มีข้อได้เปรียบที่สำคัญในการปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลล์และประสิทธิภาพการผลิต และเป็นส่วนสนับสนุนทางเทคนิคที่สำคัญสำหรับการส่งเสริมกระบวนการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบางในระดับอุตสาหกรรม
FUNSONIC Ultrasonic Thin Film Photovoltaic Cell Atomization Nano Particle Coating FS620 ส่วนใหญ่ใช้สำหรับการทดสอบเชิงคุณภาพในห้องปฏิบัติการทางวิทยาศาสตร์ การผลิตในชุดเล็กและขนาดกลาง และพื้นที่ขนาดกลาง อุปกรณ์ทั้งหมดมีโครงสร้างที่เรียบง่ายและสง่างาม ใช้โมดูลการเคลื่อนที่แบบแม่นยำสามแกน XYZ และติดตั้งระบบควบคุมเฉพาะสำหรับการพ่นด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงที่พัฒนาโดย FUNSONIC เอง ทำให้ได้ระบบแก้ไขวิถีที่ครอบคลุมพร้อมฟังก์ชันที่ตรงกัน และทำให้การพ่นมีความสม่ำเสมอและแม่นยำ
พารามิเตอร์:
คุณสมบัติ :
1. การเคลือบที่มีความสม่ำเสมอสูง
ควบคุมปริมาณการพ่นและขอบเขตการครอบคลุมของการเคลือบอย่างแม่นยำ
รับประกันการเคลือบชั้นฟิล์มบางที่สำคัญ เช่น ชั้นดูดซับแสงและชั้นอิเล็กโทรด ที่มีความสม่ำเสมอและหนาแน่น
2. อนุภาคอะตอมขนาดนาโน
การเคลือบถูกทำให้เป็นอนุภาคละเอียดมากในระดับนาโน
ปรับปรุงความหนาแน่นและคุณสมบัติทางไฟฟ้าของการเคลือบ และลดการสูญเสียวัสดุ
3. การเคลือบที่อุณหภูมิต่ำ
ใช้เทคโนโลยีการพ่นด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงที่อุณหภูมิต่ำ
หลีกเลี่ยงความเสียหายของฟิล์มและการเสื่อมสภาพของประสิทธิภาพของแบตเตอรี่ที่เกิดจากอุณหภูมิสูง
4. ประสิทธิภาพการผลิตสูง
5. การปกป้องสิ่งแวดล้อมและการประหยัดพลังงาน
6. เหมาะสำหรับเทคโนโลยีเซลล์แสงอาทิตย์ต่างๆ
สามารถใช้สำหรับการเคลือบเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบาง เช่น a-Si, CIGS, CdTe เป็นต้น
ตอบสนองความต้องการในการผลิตของเส้นทางเทคโนโลยีเซลล์แสงอาทิตย์ที่แตกต่างกัน
การเคลือบอนุภาคนาโนแบบอะตอมไมเซชันด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบาง
วิดีโอ
วิดีโอ
วิดีโอ
|
|
| MOQ: | 1 ยูนิต |
| ราคา: | Negotation |
| บรรจุภัณฑ์มาตรฐาน: | บรรจุด้วยกล่องไม้ |
| วิธีการชำระเงิน: | ที/ที, เวสเทิร์นยูเนี่ยน |
| กำลังการผลิต: | 1,000 หน่วยต่อเดือน |
การเคลือบอนุภาคนาโนแบบอะตอมไมเซชันด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบาง
คำอธิบาย:
การเคลือบอนุภาคนาโนแบบอะตอมไมเซชันด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบางเป็นกระบวนการขั้นสูงที่ใช้เทคโนโลยีคลื่นเสียงความถี่สูงในการเคลือบชั้นสำคัญของเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบางอย่างแม่นยำ มีข้อได้เปรียบที่สำคัญในการปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลล์และประสิทธิภาพการผลิต และเป็นส่วนสนับสนุนทางเทคนิคที่สำคัญสำหรับการส่งเสริมกระบวนการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบางในระดับอุตสาหกรรม
FUNSONIC Ultrasonic Thin Film Photovoltaic Cell Atomization Nano Particle Coating FS620 ส่วนใหญ่ใช้สำหรับการทดสอบเชิงคุณภาพในห้องปฏิบัติการทางวิทยาศาสตร์ การผลิตในชุดเล็กและขนาดกลาง และพื้นที่ขนาดกลาง อุปกรณ์ทั้งหมดมีโครงสร้างที่เรียบง่ายและสง่างาม ใช้โมดูลการเคลื่อนที่แบบแม่นยำสามแกน XYZ และติดตั้งระบบควบคุมเฉพาะสำหรับการพ่นด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงที่พัฒนาโดย FUNSONIC เอง ทำให้ได้ระบบแก้ไขวิถีที่ครอบคลุมพร้อมฟังก์ชันที่ตรงกัน และทำให้การพ่นมีความสม่ำเสมอและแม่นยำ
พารามิเตอร์:
คุณสมบัติ :
1. การเคลือบที่มีความสม่ำเสมอสูง
ควบคุมปริมาณการพ่นและขอบเขตการครอบคลุมของการเคลือบอย่างแม่นยำ
รับประกันการเคลือบชั้นฟิล์มบางที่สำคัญ เช่น ชั้นดูดซับแสงและชั้นอิเล็กโทรด ที่มีความสม่ำเสมอและหนาแน่น
2. อนุภาคอะตอมขนาดนาโน
การเคลือบถูกทำให้เป็นอนุภาคละเอียดมากในระดับนาโน
ปรับปรุงความหนาแน่นและคุณสมบัติทางไฟฟ้าของการเคลือบ และลดการสูญเสียวัสดุ
3. การเคลือบที่อุณหภูมิต่ำ
ใช้เทคโนโลยีการพ่นด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงที่อุณหภูมิต่ำ
หลีกเลี่ยงความเสียหายของฟิล์มและการเสื่อมสภาพของประสิทธิภาพของแบตเตอรี่ที่เกิดจากอุณหภูมิสูง
4. ประสิทธิภาพการผลิตสูง
5. การปกป้องสิ่งแวดล้อมและการประหยัดพลังงาน
6. เหมาะสำหรับเทคโนโลยีเซลล์แสงอาทิตย์ต่างๆ
สามารถใช้สำหรับการเคลือบเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบาง เช่น a-Si, CIGS, CdTe เป็นต้น
ตอบสนองความต้องการในการผลิตของเส้นทางเทคโนโลยีเซลล์แสงอาทิตย์ที่แตกต่างกัน
การเคลือบอนุภาคนาโนแบบอะตอมไมเซชันด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ฟิล์มบาง
